FYTRONIX_FY_MGSP-3 magnetron sputter ince film kaplama sistemi, malzeme bilimi ve nanoteknolojide alttaşlar üzerine ince filmler veya kaplamalar oluşturmak için kullanılan çok yönlü bir yüksek vakum biriktirme sistemidir. Sistem, 2 adet RF saçtırma kaynağı, bir adet DC saçtırma kaynağına sahiptir. RF/DC saçtırma, hedef malzemenin yüksek enerjili iyonlarla bombardıman edilerek atomların veya moleküllerin fırlatılması ve bir alttaş üzerine biriktirilmesi işlemidir. Sistemde bulunan 2 adet in-situ kalınlık ölçer ile film ölçülmektedir.
Üçlü Saçtırma
3 tane 2″ saçtırma tabancasına sahiptir ve üçüde aynı anda kullanılabilmektedir. Ayrıca; 500W’lık 2xRF güç kaynağı, 1500Watt 1xDC güç kaynağına sahiptir.
Vakum Değerleri
Sistem Tam yüklü nihai vakum derecesi: ≤3.9×10-5Pa (ısıtma ve gazdan arındırma sonrası); Sistem 30 dakikada 1.2×10-4 Pa vakum seviyesine düşebilmektedir.
Gaz Akış Kontrolörleri:
Argon, Oksijen, Azot ve Metan olmak üzere 4 adet gaz bağlıdır. Bu sayede Oksit, Nitrür ve Karbür kaplamalar yapılabilmektedir.
Isıtma Sistemi Sıcaklık kontrol yöntemi PID otomatik sıcaklık kontrolü ve dijital ekrandır; Numune ısıtma sıcaklığı: oda sıcaklığı ile 600°C aralığında sürekli olarak ayarlanabilir;
